X射線熒光光譜儀的分類有幾種

　　X射線熒光光譜儀具有重現(xiàn)性好，測(cè)量速度快，靈敏度高的特點(diǎn)。能分析B(5)~U(92)之間所有元素。X射線熒光光譜是一種常用的光譜技術(shù)，既可用于材料的組成成分分析，又可用于涂層和多層薄膜厚度的測(cè)量等。無標(biāo)半定量方法可以對(duì)各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結(jié)果，結(jié)果準(zhǔn)確度對(duì)某些樣品可以接近定量水平，分析時(shí)間短。

　　熒光光譜

　　能量色散X射線熒光光譜采用脈沖高度分析器將不同能量的脈沖分開并測(cè)量。能量色散X射線熒光光譜儀可分為具有高分辨率的光譜儀，分辨率較低的便攜式光譜儀，和介于兩者之間的臺(tái)式光譜儀。高分辨率光譜儀通常采用液氮冷卻的半導(dǎo)體探測(cè)器，如Si(Li)和高純鍺探測(cè)器等。低分辨便攜式光譜儀常常采用正比計(jì)數(shù)器或閃爍計(jì)數(shù)器為探測(cè)器，它們不需要液氮冷卻。采用電致冷的半導(dǎo)體探測(cè)器，高分辨率譜儀已不用液氮冷卻。同步輻射光激發(fā)X射線熒光光譜、質(zhì)子激發(fā)X射線熒光光譜、放射性同位素激發(fā)X射線熒光光譜、全反射X射線熒光光譜、微區(qū)X射線熒光光譜等較多采用的是能量色散方式。

　　非色散譜儀

　　非色散譜儀不是采用將不同能量的譜線分辨開來，而是通過選擇激發(fā)、選擇濾波和選擇探測(cè)等方法使測(cè)量分析線而排除其他能量譜線的干擾，因此一般只適用于測(cè)量一些簡單和組成基本固定的樣品。

　　全反射熒光

　　如果n1>n2，則介質(zhì)1相對(duì)于介質(zhì)2為光密介質(zhì)，介質(zhì)2相對(duì)于介質(zhì)1為光疏介質(zhì)。對(duì)于X射線，一般固體與空氣相比都是光疏介質(zhì)。所以，如果介質(zhì)1是空氣，那么α1>α2，即折射線會(huì)偏向界面。如果α1足夠小，并使α2=0，此時(shí)的掠射角α1稱為臨界角α臨界。當(dāng)α1<α臨界時(shí)，界面就象鏡子一樣將入射線全部反射回介質(zhì)1中，這就是全反射現(xiàn)象。

　　手持式X射線熒光光譜儀中的X射線管通常都為微型管，使用功率一般低于10瓦特，這也意味著管通量(激發(fā)強(qiáng)度)非常有限，但這能夠通過保持樣品與微型X射線管及探測(cè)器間的距離足夠小得到解決。